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鎳銅合金靶材



鎳銅旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝得到合金鑄錠,然后通過成型工藝使得鑄錠經(jīng)過塑性成形,尺寸根據(jù)客戶要求定制。
鎳銅平面靶采用真空熔煉工藝得到合金鑄錠,然后通過成型工藝使得鑄錠經(jīng)過塑性成形,尺寸根據(jù)客戶要求定制。


純度:99.9%;常用比例:Ni-20Cu wt%,Ni-30Cu wt%,Ni-56Cu wt%,Ni-70Cu wt%,Ni-80Cu wt%。
應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體集成電路 (VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等。


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